Chính phủ Trung Quốc đang quảng bá hai máy in thạch bản, sản xuất chip nội địa mà họ cho là đã đạt được những tiến bộ đáng kể, trong bối cảnh nước này đang nỗ lực tự cung tự cấp về công nghệ trong bối cảnh chịu lệnh trừng phạt của Mỹ.
Theo Bộ Công nghiệp và Công nghệ thông tin Trung Quốc (MIIT), các máy in thạch bản, dùng để in các mẫu mạch cực kỳ phức tạp lên các tấm wafer silicon của nước này “đã đạt được những đột phá đáng kể về công nghệ, nắm trong tay quyền sở hữu trí tuệ nhưng vẫn chưa được đưa ra thị trường”. Dù quảng bá về thiết bị mới nhưng Bộ này không nêu tên các công ty đứng sau.
Tờ SMCP dẫn thông tin theo danh sách mới về "thiết bị công nghệ chính" do MIIT công bố vào đầu tuần này thì một trong những máy quang khắc cực tím sâu (DUV) của họ hoạt động ở bước sóng 193 nanomet (nm), với độ phân giải dưới 65nm và độ chính xác phủ dưới 8nm. Máy DUV còn lại có bước sóng 248nm, với độ phân giải 110nm và độ chính xác phủ 25nm, theo danh sách.
Hai máy này vẫn còn kém xa so với các tùy chọn tiên tiến nhất hiện có trên thị trường. Ví dụ, một trong những máy DUV tiên tiến nhất của nhà sản xuất thiết bị Hà Lan ASML Holding có thể hoạt động ở độ phân giải dưới 38nm với độ chính xác phủ là 1,3nm. ASML hiện là công ty hàng đầu, gần như có tính chi phối thị trường máy in thạch bản toàn thế giới.
Máy DUV của Trung Quốc cũng chậm hơn so với máy cực tím (EUV) sử dụng ánh sáng có bước sóng chỉ 13,5nm – sắc nét hơn gần 14 lần so với bước sóng 195nm của DUV từ ASML.
Trung Quốc đã dành nhiều năm theo đuổi mục tiêu tự cung tự cấp công nghệ bán dẫn, nhưng tiến độ sản xuất các hệ thống quang khắc cần thiết để sản xuất hàng loạt chip tiên tiến vẫn còn chậm và theo các nhà nghiên cứu, nước này vẫn còn cần nhiều thời gian để có thể theo kịp các thành tựu của của các "ông lớn" như ASML.
Hầu như toàn bộ máy quang khắc của Trung Quốc cho đến nay vẫn đến từ ASML (Hà Lan), tuy nhiên dưới sức ép từ phía Mỹ và các đồng minh, công ty đã cắt đứt quyền tiếp cận của các khách hàng Trung Quốc đối với các máy EUV tiên tiến của mình.
Theo các chuyên gia, doanh nghiệp bán dẫn trực thuộc nhà nước Trung Quốc là Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE) đang là hy vọng lớn nhất của nước này trong việc phát triển hệ thống quang khắc tiên tiến của riêng mình. Mặc dù đã có nhiều bước tiến và thành tựu trong thời gian qua, SMEE vẫn còn kém xa so với các đối thủ toàn cầu như ASML. Không những vậy, SMEE còn bị Mỹ đưa vào danh sách đen thương mại vào tháng 12/2022, vì vậy Trung Quốc sẽ cần những đột phá trên nhiều công nghệ và mạng lưới nhà cung cấp để vượt qua các hạn chế.
Vào tháng 3 năm ngoái, SMEE đã nộp bằng sáng chế cho "Máy phát bức xạ EUV và thiết bị in thạch bản" của riêng mình.
Thông tin Trung Quốc đang từng bước tự lực cánh sinh trong việc sản xuất các máy in thạch bản đã nhanh chóng thu hút sự chú ý của giới quan sát. Trước đó, ngày 9/7, tại sự kiện khai mạc Hội nghị Internet Trung Quốc, ông Wu Hequan – cựu Phó Chủ tịch Viện Kỹ thuật Trung Quốc cho rằng, các hạn chế tiếp cận chip hiện đại đang có những tác động nhất định đến công nghệ của nước này, tuy nhiên cuối cùng họ cũng sẽ từng bước vượt qua các trở ngại bằng cách tập hợp các nguồn lực điện toán. Việc không được tiếp cận các con chip tiên tiến sẽ làm chậm việc mở rộng năng lực điện toán của nước này, nhưng Trung Quốc cũng đã phát triển cơ sở hạ tầng điện toán riêng, đáp ứng từng bước cho tham vọng AI của mình.
